wafer grinding中文
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MOSFET晶圓薄化製程Wafer Thinning 利用研磨輪,快速且精密研磨後,再以蝕刻液進行表面微蝕刻,去除因研磨產生的破壞層,並釋放應力。宜特可為客戶提供達僅100um的厚度 ...
wafer grinding
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... wafer grinding – 英中词典以及8百万条中文译文例句 ... 英语-中文正在建设中. wafer —. 晶片. ·. 威化饼干 · wafer 名 —. 晶圆片 名. grinding 形 —.
Wafer Thinning 晶圓薄化一般研磨Non
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MOSFET晶圓薄化製程Wafer Thinning 利用研磨輪,進行快速而精密之研磨後,再以蝕刻液進行表面微蝕刻,藉以去除因研磨產生的破壞層,並釋放應力。ProPowertek宜錦科技可 ...
何謂晶圓研磨膠帶(BG tape)
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... 晶圓研磨膠帶Wafer back grinding ( BG tape )。 何謂晶圓研磨膠帶 ? 晶圓產出後需經研磨與拋光,讓晶圓研磨到所需的厚度,再進行下一道製程。在這道 ...
半導體晶圓平面磨削用砂輪
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指透過加工提升半導體IC晶片的原型―晶圓表面精度的砂輪。 KGW活用長年累積的陶瓷結合劑相關經驗, 並加以改良成鑽石磨粒用,已能夠製造出鑽石磨粒保持力非常強的陶瓷 ...
半導體用黏著膠帶技術
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黏著膠帶(Adhesive Tapes)應用於半導體(Semiconductor)方面主要有晶背研磨(Wafer Back Grinding)及晶圓切割(Dicing)等兩大製程。晶背研磨係將晶片背面研磨 ...
研磨參數對製程前段超薄晶圓表面粗糙度與後段扇出型封裝 ...
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晶圓背面研磨(Back Grinding)是半導體產業常用到的製程技術之一,能夠用來減少晶片的厚度,清除汙染物,增加散熱率,並且表面光滑有利於後續製程的進行,因此判斷研磨 ...
背面研磨(Back Grinding)决定晶圆的厚度
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背面研磨是将晶圆背面磨薄的工序,其目的不仅是为了减少晶圆厚度,还在于联结前端和后端工艺以解决前后两个工艺之间出现的问题。半导体芯片(Chip)越薄, ...
背面研磨製程
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晶圓薄化(Wafer Thinning/Non-Taiko Grinding / Conventional Grinding) ... 利用研磨輪,進行快速而精密之研磨(Grinding) 後,再去除因研磨產生的破壞層,並釋放應力。